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  • 上海實驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積
    上海實驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過反應氣態放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點，工藝流程簡單，與傳統CVD系統比較，生長溫度更低，管輝光均勻等效，薄膜均勻沉積。
    更新時間：2023-12-21型號：廠商性質：生產廠家
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  • KT-PE500ZPECVD射頻模塊
    PECVD射頻模塊通過反應氣態放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點，工藝流程簡單，與傳統CVD系統比較，生長溫度更低，管輝光均勻等效，薄膜均勻沉積。
    更新時間：2023-12-15型號：KT-PE500Z廠商性質：生產廠家
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