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【新品發布】——突破極限，1000°高溫探針臺震撼上市！我們非常榮幸地宣布推出全新的1000°高溫探針臺。這款產品是我們經過不懈努力和持續創新的成果，將為您在高溫實驗領域帶來了全新的體驗。1000度高溫真空探針臺（High-TemperatureVacuumProbeStation）主要應用于半導體、材料科學、納米技術、光電子、薄膜技術等領域，具有以下用途：......
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半導體制冷臺的工作過程可以分為四個主要階段：起始階段、正向運行階段、穩態工作階段和反向運行階段。在起始階段，冷端的溫度較高，熱端的溫度較低。然而，由于這兩端之間的溫度差異不足以產生足夠的電壓差，導致無法維持制冷效果。因此，此階段需要其他制冷設備或方法進行預冷。在正向運行階段，冷端的溫度下降，熱端的溫度上升，電流流經熱電......
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半導體制冷臺(也稱為熱電制冷臺)是一種基于熱電效應的制冷設備，它通過將電能轉化為熱能和冷能，實現制冷效果。當一個電流經過兩個不同材料的接觸面時，產生的熱流量將會引起溫度差異，從而產生熱電效應。這被稱為Seebeck效應。Seebeck效應的基本原理是，在兩個不同材料交界處，電子會從能級較高的材料流向能級較低的材料，從而......
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小型蒸鍍儀在材料科學和工程領域中發揮著重要作用，廣泛應用于微電子、光電子、材料科學等領域。熱蒸發是一種將固態材料迅速加熱并使其轉變為蒸汽的過程。固態材料(如金屬或非金屬)被放置在加熱源中，當加熱源加熱到一定溫度時，該材料開始蒸發。蒸發的材料蒸汽在真空環境中自由擴散，并沉積到待鍍物表面形成薄膜。小型蒸鍍儀常見的應用領域：......
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小型濺射儀是種常見的表面處理設備，其原理是利用高能離子束轟擊固體材料，以改變其表面性質。主要由濺射靶、工作室、真空系統、控制系統等組成。其中關鍵的部分是濺射靶和工作室。濺射靶材料是由所需要改變其表面性質的物質組成，如金屬、陶瓷等。工作室是一個真空環境，用于避免氧氣、水蒸氣等對濺射過程的干擾。在工作時，首先需要將工作室抽......
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