品牌 | 鄭科探 | 產地類別 | 國產 |
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應用領域 | 綜合 |
小型高溫蒸鍍金屬制備氣相沉積反應設備,小(xiao)型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動操控(kong)、高性價(jia)比,非常適(shi)合實驗室科研使用。
通過(guo)加熱(re)蒸(zheng)發(fa)某種(zhong)物質使其沉(chen)積在固體表(biao)面,稱為熱(re)蒸(zheng)發(fa)鍍膜(mo),熱(re)蒸(zheng)發(fa)鍍膜(mo)技術(shu)是歷史最悠久的PVD鍍膜(mo)技術(shu)之一。熱蒸(zheng)發鍍膜(mo)機一般(ban)主要用于蒸(zheng)發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。
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原樣品沒有鍍膜 115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 115A 120秒 分子泵抽(chou)20分鐘(zhong)
真(zhen)空度越高 越不易氧化 越接近金屬(shu)本色
小(xiao)型(xing)高溫(wen)蒸鍍金(jin)屬制備氣(qi)相沉積反應設備KT-Z1650CVD
控(kong)制方式 | 7寸(cun)人機界面 手動(dong) 自動(dong)模(mo)式切換控(kong)制 |
加熱方式 | 數字式功率(lv)調整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
最大功率 | ≤1200W |
最大(da)輸出(chu)電壓(ya)電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度(du) | 機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa |
擋(dang)板類型 | 電控 |
真(zhen)空腔室(shi) | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 (最大可安裝φ50基底) |
樣品臺(tai)轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品蒸發(fa)源調節距離 | 70-140mm |
蒸發(fa)溫度調(diao)節 | ≤1800℃ |
支持蒸發坩堝類(lei)型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
預留(liu)真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
可選配擴展 | 機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa) 數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa) 分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa) |
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