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小型高溫蒸鍍金屬制備氣相沉積反應設備

簡(jian)要描述:小型高溫蒸鍍(du)金屬(shu)制備(bei)氣(qi)相沉積反應設備(bei),觸摸屏控(kong)(kong)制,可調節功(gong)率和蒸鍍(du)時間,配有樣(yang)品(pin)擋板能精確控(kong)(kong)制鍍(du)膜(mo)時間,保護樣(yang)品(pin)

  • 產品型號:KT-Z1650CVD
  • 廠商(shang)性(xing)質:生產廠家
  • 更新時間:2023-09-08
  • 訪(fang)  問  量:335
詳細介紹
品牌鄭科探產地類別國產
應用領域綜合

小型高溫蒸鍍金屬制備氣相沉積反應設備小(xiao)型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動操控(kong)、高性價(jia)比,非常適(shi)合實驗室科研使用。
通過(guo)加熱(re)蒸(zheng)發(fa)某種(zhong)物質使其沉(chen)積在固體表(biao)面,稱為熱(re)蒸(zheng)發(fa)鍍膜(mo),熱(re)蒸(zheng)發(fa)鍍膜(mo)技術(shu)是歷史最悠久的PVD鍍膜(mo)技術(shu)之一。熱蒸(zheng)發鍍膜(mo)機一般(ban)主要用于蒸(zheng)發CdPbAgAlCuCrAuNi等材料。

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637858771737832260197.png   原樣品沒有鍍膜                       637858771732996198687.png  115A 100秒 機械泵

637858771732840196319.png115A 100秒 分子泵抽12分鐘    637858771732684194803.png  115A 120秒 分子泵抽(chou)20分鐘(zhong)


真(zhen)空度越高 越不易氧化 越接近金屬(shu)本色

小(xiao)型(xing)高溫(wen)蒸鍍金(jin)屬制備氣(qi)相沉積反應設備KT-Z1650CVD

控(kong)制方式

7寸(cun)人機界面 手動(dong) 自動(dong)模(mo)式切換控(kong)制

加熱方式

數字式功率(lv)調整器

鍍膜功能

0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

最大功率

1200W

最大(da)輸出(chu)電壓(ya)電流

電壓≤12V  電流≤120A

真空度(du)

機械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤10^-3Pa

擋(dang)板類型

電控

真(zhen)空腔室(shi)

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺

可旋轉φ62  (最大可安裝φ50基底)

樣品臺(tai)轉速

8/分鐘

樣品蒸發(fa)源調節距離

70-140mm

蒸發(fa)溫度調(diao)節

1800

支持蒸發坩堝類(lei)型

鎢絲藍  帶坩堝鎢絲藍  鎢舟  碳繩  

預留(liu)真空接口

KF25抽氣口  KF16真空計接口  KF16放氣口 6mm卡套進氣口

可選配擴展

機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa  

數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa








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