Q1: 什么(me)是PVD? 真(zhen)空電鍍(du)加(jia)工真(zhen)空鍍(du)膜(mo)技術

A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫(xie)，中文意思(si)是“物(wu)理氣相沉積”，是指在(zai)真空條件(jian)下，用物(wu)理的方法(fa)使材料沉積在(zai)被鍍工(gong)件(jian)上的薄膜制備(bei)技術(shu)。

    鄭(zheng)州科探儀(yi)器設備(bei)(bei)有限公司新研發(fa)一款小型蒸(zheng)鍍(du)儀(yi)KT-Z1650DM是(shi)一款小型臺式加熱功(gong)率(lv)可控(kong)蒸(zheng)發(fa)鍍(du)膜儀(yi)，儀(yi)器雖小功(gong)能(neng)齊全，配備(bei)(bei)有電(dian)壓 電(dian)流反饋,樣(yang)品(pin)臺旋轉(zhuan)，樣(yang)品(pin)高(gao)度調節(jie)，及電(dian)動(dong)擋板功(gong)能(neng)。通過定(ding)時(shi)調節(jie)預熱功(gong)率(lv)及蒸(zheng)發(fa)功(gong)率(lv)，可對大部分金屬進行均勻蒸(zheng)發(fa)沉積，真空腔室為(wei)透明石英玻璃減(jian)少(shao)樣(yang)品(pin)污染(ran)，樣(yang)品(pin)臺可旋轉(zhuan)以獲得更均勻的薄(bo)膜，可制(zhi)備(bei)(bei)各種金屬薄(bo)膜和有機物薄(bo)膜。

Q2: 請問什(shen)么是(shi)PVD鍍膜(mo)? 什(shen)么是(shi)PVD鍍膜(mo)機?

A2: PVD(物(wu)理氣(qi)相(xiang)沉積)技(ji)術主要分為三(san)類，真(zhen)(zhen)空蒸發鍍(du)膜(mo)、真(zhen)(zhen)空濺(jian)射鍍(du)膜(mo)和(he)真(zhen)(zhen)空離(li)子鍍(du)膜(mo)。相(xiang)對(dui)于PVD技(ji)術的(de)(de)三(san)個分類，相(xiang)應(ying)的(de)(de)真(zhen)(zhen)空鍍(du)膜(mo)設(she)備也(ye)就(jiu)有真(zhen)(zhen)空蒸發鍍(du)膜(mo)機、真(zhen)(zhen)空濺(jian)射鍍(du)膜(mo)機和(he)真(zhen)(zhen)空離(li)子鍍(du)膜(mo)機。近(jin)十多年來，真(zhen)(zhen)空離(li)子鍍(du)技(ji)術的(de)(de)發展是(shi)(shi)快的(de)(de)，它(ta)已經(jing)成為了當代*進的(de)(de)表面處理方法(fa)之一。我們通常(chang)所說的(de)(de)PVD鍍(du)膜(mo)，指(zhi)的(de)(de)就(jiu)是(shi)(shi)真(zhen)(zhen)空離(li)子鍍(du)膜(mo);通常(chang)所說的(de)(de)PVD鍍(du)膜(mo)機，指(zhi)的(de)(de)也(ye)就(jiu)是(shi)(shi)真(zhen)(zhen)空離(li)子鍍(du)膜(mo)機。

Q3: 請問PVD鍍膜的(de)具(ju)體原理是(shi)什么?

A3: 離(li)子鍍膜(mo)(PVD鍍膜(mo))技(ji)術，其原理是在真空條(tiao)件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技(ji)術，利用氣體放電使(shi)靶材蒸發并使(shi)被(bei)蒸發物質電離(li)，在電場(chang)的作用下，使(shi)被(bei)蒸發物質或其反應產物沉(chen)積在工件上。

Q4: 請問PVD鍍膜與(yu)傳統的(de)化(hua)學電鍍(水電鍍)相(xiang)比(bi)有何優點?

A4: PVD鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)與傳(chuan)統的(de)(de)(de)化學電鍍(du)的(de)(de)(de)相同點是，兩者(zhe)都(dou)屬于(yu)表(biao)面處理(li)的(de)(de)(de)范疇(chou)，都(dou)是通過一定的(de)(de)(de)方(fang)式使一種材料(liao)覆蓋在另一種材料(liao)的(de)(de)(de)表(biao)面。兩者(zhe)的(de)(de)(de)不同點是：PVD鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)層與工件表(biao)面的(de)(de)(de)結合力(li)更大，膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)層的(de)(de)(de)硬度更高，耐(nai)(nai)磨性和(he)耐(nai)(nai)腐蝕性更好，膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)層的(de)(de)(de)性能也(ye)更穩定;PVD鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)可以(yi)鍍(du)的(de)(de)(de)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)層的(de)(de)(de)種類更為廣泛，可以(yi)鍍(du)出的(de)(de)(de)各種膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)層的(de)(de)(de)顏色也(ye)更多更漂亮;PVD鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)不會產(chan)生有毒或有污(wu)染的(de)(de)(de)物(wu)質。

Q5: 請問(wen)PVD鍍(du)膜能否代替化學電鍍(du)?

A5: 在現階段(duan)，PVD鍍(du)膜(mo)是(shi)不能取代化(hua)(hua)學(xue)電(dian)鍍(du)的，并且除了在不銹(xiu)鋼(gang)材(cai)料表面可直(zhi)接進(jin)行(xing)PVD鍍(du)膜(mo)外，在很多其(qi)他材(cai)料(如鋅合金、銅(tong)、鐵等)的工(gong)件上進(jin)行(xing)PVD鍍(du)膜(mo)前，都需要先對(dui)它(ta)們進(jin)行(xing)化(hua)(hua)學(xue)電(dian)鍍(du)Cr(鉻)。PVD鍍(du)膜(mo)主要應用在一(yi)些比較高檔(dang)的五(wu)金制(zhi)品(pin)(pin)上，對(dui)那些價格較低(di)的五(wu)金制(zhi)品(pin)(pin)通常也只是(shi)進(jin)行(xing)化(hua)(hua)學(xue)電(dian)鍍(du)而不做PVD鍍(du)膜(mo)。

Q6: 請問采(cai)用PVD鍍膜技術鍍出的(de)膜層有什么特點?

A6: 采用PVD鍍膜(mo)(mo)技術(shu)鍍出的(de)(de)膜(mo)(mo)層(ceng)，具有(you)高(gao)硬(ying)度(du)、高(gao)耐磨(mo)性(低摩(mo)擦系數)、很(hen)好(hao)的(de)(de)耐腐蝕性和化(hua)學穩定性等特點，膜(mo)(mo)層(ceng)的(de)(de)壽命(ming)更長;同時膜(mo)(mo)層(ceng)能夠大幅(fu)度(du)提(ti)高(gao)工件的(de)(de)外觀裝飾(shi)性能。

Q7: 請問PVD能在(zai)鍍(du)在(zai)什么基材上?

A7: PVD膜(mo)層能直接鍍在不銹鋼以及硬質合金(jin)上，對鋅合金(jin)、銅(tong)、鐵(tie)等壓鑄件應先進(jin)行化學電鍍鉻，然后(hou)才適合鍍PVD。

Q8: 請問PVD鍍膜能夠鍍出(chu)的膜層(ceng)種類(lei)有那些?

A8: PVD鍍膜(mo)(mo)技術是一種能(neng)(neng)夠(gou)真正獲得微米(mi)級(ji)鍍層且無污染的環保型(xing)表面處理方法，它(ta)能(neng)(neng)夠(gou)制備各種單一金屬膜(mo)(mo)(如鋁(lv)、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(mo)(mo)(TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(mo)(mo)(TiC、TiCN)，以及氧(yang)化物膜(mo)(mo)(如TiO等)。

Q9: 請問PVD鍍(du)膜(mo)膜(mo)層的厚度是多少?

A9: PVD鍍(du)膜(mo)膜(mo)層的(de)厚(hou)度(du)為(wei)微米級，厚(hou)度(du)較薄，一般為(wei)0.1μm～5μm，其中裝飾(shi)鍍(du)膜(mo)膜(mo)層的(de)厚(hou)度(du)一般為(wei)0.1μm~1μm，因此可(ke)以(yi)在幾乎不(bu)影響工(gong)(gong)(gong)件原來尺寸(cun)的(de)情況下提高工(gong)(gong)(gong)件表(biao)面的(de)各(ge)種物理性能和化(hua)學性能，并能夠(gou)維持(chi)工(gong)(gong)(gong)件尺寸(cun)基本不(bu)變，鍍(du)后不(bu)須再加工(gong)(gong)(gong)。

Q10: 請問PVD鍍膜能夠鍍出的膜層(ceng)的顏色有哪些?

A10: 我們目前能夠做出的(de)(de)膜層的(de)(de)顏色(se)有深(shen)金(jin)黃色(se)，淺金(jin)黃色(se)，咖啡色(se)，古銅(tong)色(se)，灰色(se)，黑色(se)，灰黑色(se)，七彩色(se)等。通過控制(zhi)鍍膜過程中的(de)(de)相(xiang)關參(can)數，可(ke)以控制(zhi)鍍出的(de)(de)顏色(se);鍍膜結束后可(ke)以用(yong)相(xiang)關的(de)(de)儀器對顏色(se)值進行測量，使顏色(se)得以量化，以確定所(suo)鍍出的(de)(de)顏色(se)是(shi)否滿(man)足要求。

Q11: 請(qing)問(wen)目前PVD鍍膜技術主要應用在哪些行業?

A11: PVD鍍(du)膜(mo)技術(shu)的(de)應(ying)用(yong)主(zhu)要(yao)(yao)分為(wei)兩(liang)大(da)類：裝(zhuang)飾(shi)鍍(du)和(he)工(gong)(gong)具(ju)鍍(du)。裝(zhuang)飾(shi)鍍(du)的(de)目的(de)主(zhu)要(yao)(yao)是為(wei)了改善(shan)工(gong)(gong)件(jian)的(de)外觀(guan)裝(zhuang)飾(shi)性能和(he)色澤同時使(shi)工(gong)(gong)件(jian)更耐磨(mo)耐腐蝕延長其使(shi)用(yong)壽命;這(zhe)(zhe)方(fang)面主(zhu)要(yao)(yao)應(ying)用(yong)五金(jin)(jin)行(xing)業(ye)的(de)各(ge)(ge)個領域，如(ru)門窗五金(jin)(jin)、鎖(suo)具(ju)、衛浴五金(jin)(jin)等行(xing)業(ye)。工(gong)(gong)具(ju)鍍(du)的(de)目的(de)主(zhu)要(yao)(yao)是為(wei)了提高工(gong)(gong)件(jian)的(de)表(biao)(biao)面硬度(du)和(he)耐磨(mo)性，降低表(biao)(biao)面的(de)摩擦系(xi)數，提高工(gong)(gong)件(jian)的(de)使(shi)用(yong)壽命;這(zhe)(zhe)方(fang)面主(zhu)要(yao)(yao)應(ying)用(yong)在各(ge)(ge)種(zhong)刀(dao)(dao)剪、車削(xue)刀(dao)(dao)具(ju)(如(ru)車刀(dao)(dao)、刨刀(dao)(dao)、銑刀(dao)(dao)、鉆頭等等)等產品中。

Q12: 請問(wen)PVD鍍膜的成本是(shi)不是(shi)很高?

A12: 雖然使用(yong)(yong)PVD鍍(du)膜(mo)技(ji)術能夠(gou)鍍(du)出高(gao)品質(zhi)的(de)(de)(de)膜(mo)層，但是(shi)(shi)(shi)(shi)PVD鍍(du)膜(mo)過程(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)成本其實(shi)并不(bu)(bu)高(gao)，它是(shi)(shi)(shi)(shi)一種性價比(bi)非(fei)常高(gao)的(de)(de)(de)表面(mian)處(chu)理(li)方式，所(suo)以(yi)近年來(lai)PVD鍍(du)膜(mo)技(ji)術發展(zhan)得非(fei)常快。PVD鍍(du)膜(mo)已經成為(wei)五金(jin)行(xing)業表面(mian)處(chu)理(li)的(de)(de)(de)發展(zhan)方向。PVD是(shi)(shi)(shi)(shi)英文Physical Vapor Deposition(物(wu)(wu)(wu)理(li)氣相沉積(ji))的(de)(de)(de)縮寫(xie)，是(shi)(shi)(shi)(shi)指在真(zhen)空(kong)條件下，采(cai)用(yong)(yong)低電(dian)(dian)壓、大電(dian)(dian)流的(de)(de)(de)電(dian)(dian)弧放電(dian)(dian)技(ji)術，利用(yong)(yong)氣體放電(dian)(dian)使靶材蒸(zheng)發并使被(bei)蒸(zheng)發物(wu)(wu)(wu)質(zhi)與氣體都發生(sheng)電(dian)(dian)離(li)，利用(yong)(yong)電(dian)(dian)場的(de)(de)(de)加速作用(yong)(yong)，使被(bei)蒸(zheng)發物(wu)(wu)(wu)質(zhi)及其反應產物(wu)(wu)(wu)沉積(ji)在工(gong)件上(shang)。NCVM=Non-Conductive Vacuum metallization:直譯為(wei)不(bu)(bu)導電(dian)(dian)真(zhen)空(kong)電(dian)(dian)鍍(du)(金(jin)屬表面(mian)化),制(zhi)程(cheng)(cheng):不(bu)(bu)導電(dian)(dian)鍍(du)膜(mo).其實(shi)PVD是(shi)(shi)(shi)(shi)主要用(yong)(yong)物(wu)(wu)(wu)理(li)和化學比(bi)較的(de)(de)(de)角度說的(de)(de)(de),而NCVM是(shi)(shi)(shi)(shi)側重于鍍(du)膜(mo)后產生(sheng)的(de)(de)(de)效果來(lai)表述的(de)(de)(de).其實(shi)兩者是(shi)(shi)(shi)(shi)一樣的(de)(de)(de).