高溫真空蒸鍍儀，是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如 Al. Mg, 和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理，Z大可處理的樣品直徑為50mm.。標準的旋轉樣品臺可進行傾斜調節，非常容易適應各種樣品座。可選的樣品臺具有特殊的凹槽，可放置標準的載玻片，這在“石棉分析"需要鍍碳層時尤為有利。 
碳棒頭在儀器中作為標準件。這是一個“快速釋放頭"，使用戶在選擇金屬蒸發附件、碳絲及光闌清洗頭時可方便地更換。放氣系統具有互鎖裝置，避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上，并且可安全地“關閉"直接通大氣。 
優點 
● 容易操作 
● 均勻的樣品涂層 
● 方便多用戶操作 
● 可用于蒸碳及蒸鍍金屬 
● 在排氣過程中可防止樣品損壞 
● 碳棒或碳絲蒸發

以(yi)下是(shi)不同真(zhen)空度 不同鍍膜(mo)時(shi)間鍍銅樣品圖

  原樣品沒有鍍膜                        115A 100秒 機械泵

115A 100秒 分子泵抽12分鐘      115A 120秒 分子泵(beng)抽20分鐘

真空度(du)越高 越不(bu)易氧化 越接(jie)近金(jin)屬本色(se)

高溫真空蒸鍍儀KT-Z1650CVD