小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD

離子濺射儀(yi)在掃描(miao)電(dian)鏡中應用十(shi)分(fen)廣泛(fan)，通(tong)過向(xiang)樣品(pin)表(biao)面(mian)噴鍍金、鉑、鈀及(ji)混合靶材(cai)等(deng)金屬消除(chu)不(bu)導電(dian)樣品(pin)的(de)荷電(dian)現象，并提高觀測(ce)效(xiao)率，另外(wai)可以(yi)使用噴碳附件對樣品(pin)進(jin)行蒸(zheng)碳，實(shi)現不(bu)導電(dian)樣品(pin)的(de)能(neng)譜儀(yi)元素定性(xing)和半定量分(fen)析。

磁(ci)控濺射(she)優(you)點

（1）沉積(ji)速率(lv)快，沉積(ji)效率(lv)高，適合(he)工業生產(chan)大(da)規模應用；

（2）基片溫度低，適合塑料等(deng)不耐高溫的基材鍍(du)膜(mo)；

（3）制備的(de)薄(bo)膜(mo)純度高、致(zhi)密性好(hao)、薄(bo)膜(mo)均勻(yun)性好(hao)、膜(mo)基結(jie)合力強；

（4）可制備(bei)金(jin)屬、合金(jin)、氧化物等(deng)薄膜；

小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD廠家供應技術參數；