KT-Z1650PVD是一款小(xiao)型臺式濺射(she)(she)功(gong)(gong)(gong)率可(ke)(ke)(ke)控磁(ci)控濺射(she)(she)儀(yi)(yi)，儀(yi)(yi)器雖小(xiao)功(gong)(gong)(gong)能齊全，配(pei)備有電(dian)壓 電(dian)流(liu)反饋,樣品(pin)臺旋(xuan)轉，樣品(pin)高度調(diao)節，及(ji)電(dian)動(dong)擋(dang)板功(gong)(gong)(gong)能。通(tong)過定時調(diao)節預濺射(she)(she)功(gong)(gong)(gong)率及(ji)薄膜(mo)(mo)沉(chen)(chen)積(ji)功(gong)(gong)(gong)率，可(ke)(ke)(ke)對大部分金屬進行均勻物理沉(chen)(chen)積(ji)，真(zhen)空腔室為(wei)透(tou)明石英玻璃減少樣品(pin)污染，樣品(pin)臺可(ke)(ke)(ke)旋(xuan)轉以獲得更均勻的薄膜(mo)(mo)，可(ke)(ke)(ke)制備各種金屬薄膜(mo)(mo)。

    此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，設備配有微量充氣閥調節工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有進氣口和微量充氣調節裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

單靶磁控濺射儀  主要特點：

• 可制備多種薄膜(mo)，應用廣(guang)泛 
• 體(ti)積小，操作簡便(bian) 
• 真空腔(qiang)室(shi)、真空泵組(zu)整機模塊(kuai)化設計 ，控制電源為分體式設計，可根(gen)據用戶實(shi)際需(xu)要調整購買需(xu)求。 
• 可根據(ju)用戶實際需要選(xuan)擇電源(yuan)，可以一(yi)個電源(yuan)控制(zhi)多個靶槍(qiang)，也可多個電源(yuan)單一(yi)控制(zhi)靶槍(qiang)

磁控濺射頭：

• 儀器中安裝有3個磁控濺射頭，而且都帶有水(shui)冷夾層
• 其(qi)中一個濺射(she)頭與射(she)頻電(dian)源相連接，主要是濺射(she)絕緣性靶材(cai)
• 另(ling)一個濺射(she)頭與直流電源相連接，主要濺射(she)導電性(xing)靶材(cai) 
• 可以單(dan)獨(du)訂購RF連接線(xian)作(zuo)為(wei)備用
• 設備包含一(yi)臺(tai)水冷機，用于(yu)靶頭冷卻

載樣臺：

• 載樣臺可以(yi)旋轉
• 載樣臺高可(ke)加熱溫(wen)度

真空腔體：

• 真空腔體：采用不銹鋼制作 
• 觀(guan)察窗口：
• 腔體打(da)開(kai)方式采(cai)用上頂開(kai)，使得(de)換靶更加容易(yi)

薄膜測厚：

• 一個(ge)精(jing)密的石英振動(dong)薄(bo)膜(mo)測(ce)厚(hou)儀安裝 在儀器上(shang)，可(ke)實時監測(ce)薄(bo)膜(mo)的厚(hou)度，分辨(bian)率為0.10 Å
• LED顯(xian)示(shi)屏顯(xian)示(shi)，同時也輸入(ru)所制作薄膜的相關數(shu)據