一、產品應用原理：
（1）等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設備，主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。  

（2）該(gai)清洗機(ji)(ji)內(nei)置不(bu)高純石(shi)英倉體，容(rong)積為2升，結構為上的(de)通(tong)用結構。采(cai)用了(le)新型的(de)外觀(guan)(guan)結構設(she)計(ji)和(he)固態電源(yuan)技術，使(shi)其(qi)有效容(rong)積增(zeng)大，不(bu)同(tong)真空氣體環境下容(rong)易匹配，且(qie)控(kong)制(zhi)頻率(lv)穩定。真空倉門有觀(guan)(guan)察窗，可直觀(guan)(guan)物體的(de)處(chu)理過程，其(qi)射頻電源(yuan)與控(kong)制(zhi)都組裝在一個機(ji)(ji)箱(xiang)內(nei)，即(ji)減少(shao)了(le)空間的(de)占用，更便(bian)于操作(zuo)和(he)放置，同(tong)時與大型清洗機(ji)(ji)相比(bi)較，從檢測功(gong)(gong)能與控(kong)制(zhi)功(gong)(gong)能的(de)設(she)置上均可一個面(mian)板上操作(zuo)，特別適用科學實驗樣品(pin)清洗和(he)教學。  

（3）KT-S2DQX型等離子(zi)清洗(xi)機電(dian)(dian)源屬(shu)于(yu)150W13.56MHz的(de)射頻電(dian)(dian)源。作(zuo)為(wei)一(yi)種精(jing)密干法清洗(xi)設備(bei)，主要應用于(yu)半導體(ti)、鍍膜(mo)工藝、PCB制(zhi)程、PCB制(zhi)程、元器件封裝前、COG前、真空電(dian)(dian)子(zi)、連接器和(he)繼電(dian)(dian)器等行業的(de)精(jing)密清洗(xi)，塑料(liao)、橡膠、金屬(shu)和(he)陶瓷等表(biao)面的(de)活化以及(ji)生命科(ke)學實驗等。  

二、作用過程：
（1）該低溫表面等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗內置高純石英倉體，容積為2升。采用了新型的外觀結構設計和固態電源技術，使其有效容積增大，不同真空氣體環境下容易匹配，且控制頻率穩定。
（2）真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作，特別適用科學實驗樣品清洗和教學。