等離子清洗機(ji)的優勢(shi)：

1：真空度：用皮拉尼原理測量精確到Pa，千帕是用壓力規(gui)測試，不是一個量級的。

2：傳感器：用的(de)進口的(de)氣體流量(liang)傳感器，是質(zhi)量(liang)流量(liang)計(ji)檢測氣體，精確度是通入流量(liang)的(de)±1.5%。浮子流量(liang)計(ji)，是滿量(liang)程的(de)4%，而且浮子球是上下(xia)(xia)浮動，手(shou)碰(peng)一下(xia)(xia)亂跑(pao)，真實效果達不了那么高。

4：功(gong)率(lv)是(shi)150W，國(guo)內都(dou)是(shi)統一的(de)。

5：2路流量(liang)計，質量(liang)流量(liang)計采集更精準，流量(liang)控(kong)制 2個精密針閥調節，線性(xing)調節度較好。

6： 真(zhen)空采集(ji)皮拉尼原理(li)真(zhen)空計，測(ce)量大氣壓到0.1Pa的絕(jue)對真(zhen)空。   

7： 通(tong)過精準的(de)(de)流量檢(jian)測及真空采集 使自動控制一(yi)氣呵(he)成，通(tong)過檢(jian)測固定(ding)的(de)(de)真空值讓(rang)射頻輝光，即使是手(shou)動匹配射頻電源，也只需(xu)要匹配一(yi)次(ci)，下(xia)次(ci)相同工藝(yi)，基本(ben)不需(xu)要再(zai)次(ci)調節匹配 。

問：清洗光刻膠可以嗎？

答：簡(jian)單(dan)的(de)理(li)解就是用氧氣(qi)把(ba)光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)燃燒掉，光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)的(de)基本成分是碳(tan)氫有機(ji)物，在射頻或(huo)微波(bo)作用下(xia)，氧氣(qi)電離成氧原子并與(yu)光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)發生(sheng)化(hua)(hua)學反應，生(sheng)成一(yi)氧化(hua)(hua)碳(tan)，二氧化(hua)(hua)碳(tan)和水等，再(zai)通過泵(beng)被真空抽走，完成光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)的(de)去除。

問：可以(yi)去除表(biao)面雜質和(he)一些膠嘛？

答：這個就是清洗半(ban)導體芯片表面(mian)纏雜的(de)膠和雜質，可以去除納米(mi)級別(bie)的(de)微小的(de)膠和其(qi)它顆粒(li)或者薄(bo)膜。

問：操作方便嘛

答：操作很方(fang)便。開(kai)(kai)關打開(kai)(kai)后，石英(ying)腔體抽(chou)真(zhen)空，然(ran)后產生等(deng)離(li)子(zi)，等(deng)離(li)子(zi)和表面的(de)污染物產生反(fan)應，產生廢氣，真(zhen)空泵把廢氣抽(chou)走(zou)，等(deng)離(li)子(zi)清洗機里面有(you)一個托盤(pan)，咱(zan)們把產品(pin)放托盤(pan)上面，就可以清洗了。