簡要描(miao)述:等(deng)離(li)(li)(li)子(zi)表(biao)面(mian)(mian)處(chu)(chu)理(li)(li)(li)儀廠家(jia)直供作為一種微觀(guan)固體表(biao)面(mian)(mian)的(de)處(chu)(chu)理(li)(li)(li)設設備,是(shi)一種全(quan)新的(de)表(biao)面(mian)(mian)處(chu)(chu)理(li)(li)(li)方案。等(deng)離(li)(li)(li)子(zi)體是(shi)物質的(de)一種狀態(tai),也叫做物質的(de)第四態(tai)。對氣體施加足夠的(de)能量使之離(li)(li)(li)化便成為等(deng)離(li)(li)(li)子(zi)狀態(tai)。等(deng)離(li)(li)(li)子(zi)體的(de)“活性"組分包括:離(li)(li)(li)子(zi)、電子(zi)、活性基團、激發(fa)態(tai)的(de)核素(亞穩態(tai))、光子(zi)等(deng)。等(deng)離(li)(li)(li)子(zi)清洗機就是(shi)通過利用這(zhe)些活性組分的(de)性質來處(chu)(chu)理(li)(li)(li)樣品表(biao)面(mian)(mian),從(cong)而實(shi)現清潔等(deng)目的(de)。
品牌 | 鄭科探 | 產地類別 | 國產 |
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應用領域 | 電子 |
一、等離子表面處理儀廠家直供的產品特點:
(1)鄭科探(tan)表(biao)(biao)面(mian)處理(li)(li)設(she)(she)備等(deng)離子(zi)清洗(xi)機(ji)作為(wei)一種(zhong)(zhong)微觀固體(ti)表(biao)(biao)面(mian)的(de)處理(li)(li)設(she)(she)設(she)(she)備,是一種(zhong)(zhong)全新的(de)表(biao)(biao)面(mian)處理(li)(li)方案。等(deng)離子(zi)體(ti)是物質的(de)一種(zhong)(zhong)狀態(tai),也叫做物質的(de)第四態(tai)。
(2)對氣體施加足夠的(de)(de)(de)能量使之離(li)化便(bian)成為(wei)等(deng)離(li)子(zi)狀態。等(deng)離(li)子(zi)體的(de)(de)(de)“活性”組分(fen)包(bao)括(kuo):離(li)子(zi)、電子(zi)、活性基(ji)團(tuan)、激發態的(de)(de)(de)核(he)素(亞穩態)、光子(zi)等(deng)。等(deng)離(li)子(zi)清洗機就是通過(guo)利用(yong)這些(xie)活性組分(fen)的(de)(de)(de)性質來處理(li)樣(yang)品表(biao)面,從而實現清潔等(deng)目的(de)(de)(de)。
二、鄭科探表面處理設備等離子清(qing)洗機主要應用(yong)于半導(dao)體、鍍膜工藝、PCB制程(cheng)、PCB制程(cheng)、元器件封裝前、COG前、真空電(dian)子、連(lian)接器和(he)繼電(dian)器等行業的精密清(qing)洗,塑料(liao)、橡膠、金屬和(he)陶(tao)瓷等表面的活(huo)化以及生命科學實驗(yan)等。
三、等離子表面處理儀廠家直供內置高純石英倉體,采用了新型的電極結構設計和固態電源技術,使其有效容積增大,不同真空氣體環境下容易匹配,且控制頻率穩定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內,即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作,特別適用科學實驗樣品清洗和教學。
四、滾筒等離(li)子清洗機針對粉末或者(zhe)顆(ke)粒的(de)360度(du)表面處(chu)理(li)設備,通過旋轉機構帶動石英攪(jiao)拌罐(guan)使樣品(pin)處(chu)于懸空(kong)位(wei)置達到360度(du)清洗。
設備型號 | KT-Z2DQX | KT-S2DQX | KT-Z5DQX | KT-S2GQX |
供電電源(yuan) | AC220V(AC110V可選) | |||
工作電流(liu) | 整機工作電流不(bu)大于3.5A(不(bu)含真空泵) | |||
射頻電源功率 | 1000W | 150W | 300W | 150w |
射(she)頻頻率 | 40KHz | 13.56MHz | ||
耦(ou)合方式 | 電容耦合 | |||
真空度(du) | ≤50Pa | |||
腔體材質 | 高純石(shi)英 | |||
腔體容積 | 2L(內徑110MMX深度220MM) | 2L(內徑(jing)110MMX深度220MM) | 5L(內徑160MMX深(shen)度310MM) | φ100x200mm |
觀察窗內徑 | Φ50 | Φ50 | Φ70 | 無(wu) |
氣(qi)體流量(liang) | 10—100ml/min(其(qi)他量程(cheng)可選) | |||
過程控制 | 過程自(zi)動控(kong)制 | 過程手動控制 | 過程自動控(kong)制 | 過程手動控制(zhi) |
清洗時(shi)間 | 自動開(kai)關 | |||
開(kai)蓋方(fang)式(shi) | 鉸鏈側(ce)開式法蘭 | |||
外形尺(chi)寸(cun) | 150*500*250mm | 450*460*370mm | 530*580*420mm |
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重量 | 20kg | 35kg | 40kg | 40Kg |
真空室溫度 | 小于(yu)65°C | |||
冷卻方(fang)式 | 強制風冷 | |||
標(biao)配 | KF16真空管1米,kf16卡箍2個,不銹鋼網匣1個,電源線一根(gen),說明書(shu)一本。 |
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