鄭科探小型濺射儀功能優勢

1、樣品(pin)臺旋(xuan)轉，多樣品(pin)同(tong)時鍍膜時，鍍膜厚度比較均勻。

2、預濺射擋(dang)(dang)板(ban)功能，剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質，擋(dang)(dang)板(ban)可以保護樣品，提高薄膜質量

3、帶有水(shui)冷系統，可以長時間濺射(she)鍍(du)膜(mo)，厚(hou)度可達1微米(mi)以上。

4、直流磁控濺射(she)，提(ti)高附著(zhu)力，濺射(she)速率快，比離子濺射(she)快上一個量(liang)級。針(zhen)對(dui)某些(xie)金屬最快能達到1-2納米每(mei)秒，

5、不但(dan)可(ke)以(yi)電鏡制樣，還可(ke)以(yi)制作金屬電極。

6、可擴(kuo)展(zhan)膜(mo)厚監(jian)測，監(jian)測薄膜(mo)厚度。

濺射儀使用需注

1 靶材(cai)需要良好的導(dao)電性, 如果具備這個條件  可以鍍(du)    

2 遇到容易氧化(hua)的金屬 需要(yao)配備分子泵把本(ben)底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左(zuo)右鍍(du)膜的金屬接近本(ben)色